Нагреватель инфракрасного типа для оборудования для нанесения покрытия

Sat, 20 Jun 2026 02:23:20 +0800

На этапе литографии отклонение температуры в размере 0,5°C в процессе мягкой или жесткой обработки не является «незначительным». Это приводит к снижению качества изделий — это видно по графикам однородности толщины пленки и по количеству бракованных деталей. Инфракрасные нагреватели должны обеспечивать стабильную температуру, соответствующую параметрам оптических устройств и фоторезиста.

Мы разработали этот нагреватель с учетом возможности контроля температуры на уровне самого кристалла. Массив инфракрасных излучателей направляет энергию непосредственно на кристалл, что позволяет достигать быстрого нагрева без перегрева всей камеры. Однородность температуры на поверхности кристалла остается в пределах ±0,1°C — это значит, что детали, расположенные по краям, получают такой же профиль нагрева, как и детали в центре.

Разработчик on Radiant Infrared Heating

Нагреватель инфракрасного типа для оборудования для нанесения покрытия