<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Эффективно on Radiant Infrared Heating</title>
		<link>http://radiant-ir-heater.com/ru/tags/%D1%8D%D1%84%D1%84%D0%B5%D0%BA%D1%82%D0%B8%D0%B2%D0%BD%D0%BE/</link>
		<description>Recent content in Эффективно on Radiant Infrared Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 01:20:34 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://radiant-ir-heater.com/ru/tags/%D1%8D%D1%84%D1%84%D0%B5%D0%BA%D1%82%D0%B8%D0%B2%D0%BD%D0%BE/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Эффективная обжиговая обработка фотополимера с использованием инфракрасного излучения</title>
				<link>http://radiant-ir-heater.com/ru/posts/effective-photoresist-bake-with-ir/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 01:20:34 +0800</pubDate>
				<guid>http://radiant-ir-heater.com/ru/posts/effective-photoresist-bake-with-ir/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://radiant-ir-heater.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Эффективная обжиговая обработка фотополимера с использованием инфракрасного излучения&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На этапе лиотографии даже отклонение температуры при нагревании на 0,5°C может привести к приходу всей партии продукции в негодность. Процедура мягкого нагрева предназначена для эффективного удаления растворителей с поверхности пластины; процедура жесткого нагрева служит для зафиксации необходимой температурной структуры. Если температурная однородность нарушается, контроль параметров качества пластины становится сложным, а количество частиц на её поверхности увеличивается.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что мы создали и почему это важно&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Мы разместили модуль нагрева на излучателях коротковолнового инфракрасного света, использующих кварцевые элементы для улучшения теплопередачи. Это обеспечивает однородность температуры на всей поверхности пластины в пределах ±0,1°C, а также стабильность установленной температуры в течение всего времени работы оборудования. Устройство может использоваться в чистых помещениях класса от 1 до 100, при этом оно не выделяет частиц во время нагрева. Температурные параметры фотополимера остаются стабильными от партии к партии, а температурные профили полностью соответствуют заданным параметрам.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
