http://radiant-ir-heater.com/tr/tags/temizlik/ Recent content in Temizlik on Radiant Infrared Heating Hugo tr Tue, 23 Jun 2026 13:22:11 +0800 http://radiant-ir-heater.com/tr/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/ Tue, 23 Jun 2026 13:22:11 +0800 http://radiant-ir-heater.com/tr/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/ <p><img src="http://radiant-ir-heater.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="Temizleme sonrası wafer için kızılötesi ısıtıcı"></p> <p>Üretim alanında, temizleme sonrasında kalan az miktardaki nem ve doğal oksit tabakaları, farkına <a href="https://o-yate.net">varmadan</a> fotoresistin yüzeye yapışmasını engeller. Biraz bile sıcaklık değişikliği veya bir ısı noktası oluştuğunda, Soft Bake işlemi bozulur. Bunun sonuçları daha sonra ortaya çıkar: Aşındırma işleminden sonra yüzey kalitesinde düşüşler, litografi işlemlerinde sorunlar oluşur. Biz ise bu tür belirsizlikleri ortadan kaldırmak için temizleme sonrası kullanılan infraruj ısıtıcılar geliştirdik.</p> <p><strong>Teknik açıdan önemli olanlar</strong><br> Bu cihaz, parçacık oluşumunu engellemek için kuvars içermeyen bir optik yolla kısa dalga boylu infraruj ışınları kullanır. Böylece sıcaklık kontrolü sağlanır ve Class 1–100 temiz oda koşullarında gereken seviyede kalır. Wafer ü<a href="https://henruite.com">zerindeki</a> sıcaklık homojenliği ±0,1°C olarak korunur; böylece fotoresistin pişirilmesi süreci daha hassas ve tekrarlanabilir hale gelir. Cihazın tepki süresi hızlıdır; bu sayede sıcaklık limitlerini aşmadan işlem yapılabilir. Bu ısıtıcı, hem standart Soft Bake hem de Hard Bake işlemlerini gerçekleştirebilir ve hem seri üretim hatlarına hem de bağımsız kurutma ünitelerine kolayca entegre edilebilir.</p>