در فرآیند لیتوگرافی، تغییر دمای حرارتی معادل ۰.۵ درجه سانتیگراد کافی است تا کل محموله محصولات از بین برود. فرآیند حرارتی نرم، به منظور خارج کردن کامل حلالها از روی ویفر انجام میشود؛ در حالی که فرآیند حرارتی سخت، باعث تثبیت پروفایل حرارتی میشود. وقتی که یکنواختی حرارتی از بین برود، کنترل اندازه ذرات نیز دچار مشکل میشود و تعداد ذرات افزایش مییابد.
آنچه ما ساختیم، و چرا اهمیت دارد
ما ماژول حرارتی را روی الکترومغناطیسهای موج کوتاه NIR قرار دادیم؛ این کار باعث میشود یکنواختی حرارتی در سطح ویفر حدود ±۰.۱ درجه سانتیگراد باشد. همچنین، پایداری دما نیز در طول شبانهروز حفظ میشود. این سیستم با استانداردهای اتاقهای پاک از کلاس ۱ تا کلاس ۱۰۰ سازگار است؛ همچنین، در حین فرآیند حرارتی، هیچ ذرهای تولید نمیشود. پروفایل حرارتی نیز به طور قابل تکراری در هر محموله محصولات حفظ میشود.
چرا این روش در خط تولید مؤثر است
در این روش، فرآیندهای حرارتی نرم و سخت روی یک پلتفرم حرارتی واحد انجام میشوند؛ بنابراین تفاوتهای دمایی بین فرهای مختلف از بین میرود. این کار باعث میشود فرآیند تولید دقیقتر شود، میزان محصولات باکیفیت افزایش یابد و مصرف انرژی کاهش یابد؛ زیرا این روش از موجهای مادون قرمز برای گرم کردن ویفر استفاده میکند، نه کل اتاق تولید.
قابلیت اطمینان این سیستم بسیار بالاست؛ قطعات آن برای کار مداوم طراحی شدهاند، و آرایه الکترومغناطیسها میتوانند بیش از ۵۰۰۰ ساعت کار کنند، بدون اینکه کاهشی در عملکرد آنها ایجاد شود. در نتیجه، نیاز به مداخلات کمتری وجود دارد، و کنترل حرارتی در هر ویفر نیز یکنواخت خواهد بود.
چه چیزهایی را باید در نظر بگیرید
این ماژول میتواند از طریق رابطهای مکانیکی و الکتریکی موجود، به سیستمهای موجود متصل شود؛ اما برای حفظ یکنواختی حرارتی، به یک خط کنترل ۲۴ ولتی و سیستم خنککننده مناسب نیاز دارد.
لازم است یک آزمایش کوتاه انجام شود تا اختلافات دمایی بین ویفر و پلتفرم حرارتی مشخص شود. پس از آن، عملکرد سیستم حرارتی به طور قابل تکراری باقی خواهد ماند، بدون نیاز به مداخلات زیاد از سوی اپراتور.