
Di area litografi, perubahan suhu selama proses pemanasan sebesar 0,5°C saja sudah cukup untuk membuat seluruh produksi menjadi tidak berguna. Proses pemanasan “lembut” bertujuan untuk menghilangkan pelarut secara efektif, sedangkan proses pemanasan “keras” berfungsi untuk mempertahankan profil suhu yang diinginkan. Jika keseragaman suhu tidak terjaga, maka kontrol ketebalan lapisan fotoresist akan terganggu, dan jumlah partikel yang dihasilkan akan meningkat.
Apa yang telah kami buat, dan mengapa hal tersebut penting
Kami menggunakan emiter gelombang pendek NIR beserta sistem pendingin berbahan kuarsa untuk memastikan keseragaman suhu hingga ±0,1°C di seluruh permukaan wafer. Sistem ini juga memiliki stabilitas suhu yang tinggi, sehingga cocok digunakan di ruang bersih dengan kelas kebersihan dari 1 hingga 100. Selain itu, sistem ini tidak menghasilkan partikel selama proses pemanasan. Profil suhu yang dihasilkan pun konsisten dari satu batch ke batch lainnya.
Mengapa cara ini efektif
Proses pemanasan “lembut” dan “keras” dapat dilakukan pada platform termal yang sama, sehingga perbedaan suhu antar oven dapat dihilangkan. Dengan demikian, waktu proses menjadi lebih singkat, jumlah produk yang rusak berkurang, dan penggunaan energi pun berkurang karena IR yang digunakan untuk memanaskan objek, bukan seluruh ruangan. Keandalan sistem ini sangat tinggi; komponen-komponennya dirancang untuk beroperasi secara terus-menerus, dan array emiter mampu bertahan lebih dari 5.000 jam dengan penurunan kinerja kurang dari 5%. Dengan demikian, diperlukan intervensi yang lebih sedikit, dan kontrol suhu pun menjadi lebih konsisten untuk setiap wafer.
Apa yang perlu dipersiapkan
Modul ini dapat dipasang ke jalur produksi yang sudah ada melalui antarmuka mekanis dan listrik standar. Namun, diperlukan kabel kontrol 24V khusus serta sistem pendingin yang efektif agar suhu tetap stabil. Lakukan uji coba singkat untuk mengetahui perbedaan suhu antara chuck dan wafer. Setelah itu, kinerja sistem pemanasan akan tetap konsisten, tanpa memerlukan campur tangan operator yang banyak.