Pengeringan fotoresist yang efektif menggunakan sinar inframerah
Di area litografi, perubahan suhu selama proses pemanasan sebesar 0,5°C saja sudah cukup untuk membuat seluruh produksi menjadi tidak berguna. Proses...
Lampu panggang spin coater
Di lantai litografi, proses baking bukanlah jeda—ini adalah batas yang jelas. Soft bake menghilangkan pelarut photoresist. Hard bake mengunci citra...