Essiccazione efficiente del fotorestivo _con IR
Nella fase di litografia, una variazione di temperatura di soli 0,5°C durante il processo di essiccazione può essere sufficiente per rendere...
Lampada di cottura per spin coater
Sulla superficie di litografia, la cottura non è una pausa—è la linea di confine. La cottura morbida elimina il solvente del fotoresist. La cottura...