Di bilik pengeluaran wafer, ralat suhu bukanlah sesuatu yang boleh dikompromikan. Perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pemanasan photoresist sudah cukup untuk mengganggu dimensi-komponen penting pada wafer tersebut. Selain itu, kelembapan yang masih ada selepas proses pembersihan juga boleh menimbulkan masalah pada lapisan litografi seterusnya. Dapur konveksi dapat membantu mengatasi masalah perbezaan suhu antara bahagian-bahagian wafer. Sinar inframerah pula merupakan cara yang lebih efektif, tetapi ia hanya berkesan jika digunakan dengan cara yang tepat, bukan sekadar menggunakan haba semata-mata.
Apa yang penting dari segi teknikal adalah memastikan spektrum cahaya yang digunakan sesuai dengan proses pengeluaran. Sumber cahaya jenis halogen dan NIR memberikan pemanasan yang cepat dan terkawal, yang sangat diperlukan untuk menjaga kawalan suhu yang tepat. Tiub kuarsa dan unsur karbon-serat pula membantu menjaga kelancaran proses pemanasan. Hasilnya ialah keseragaman suhu pada wafer dalam lingkungan ±0.1°C, serta profil pemanasan yang konsisten dari satu proses ke proses yang lain. Tidak akan ada pembentukan zarah-zarah yang boleh merosakkan kualiti wafer. Selain itu, tenaga juga dapat dijimatkan kerana haba disalurkan terus ke wafer, bukan ke dinding ruang pengeluaran.
Dalam proses pengeringan wafer, sinar inframerah dapat menghilangkan kelembapan dengan cepat tanpa merosakkan lapisan oksida pada permukaan wafer. Dalam proses pemrosesan photoresist pula, sinar inframerah membantu mengawal suhu dengan baik, sehingga dimensi garis pada wafer tetap stabil dan kecacatan dapat dikurangkan. Dalam proses pembungkusan pula, masa yang diperlukan untuk proses pemanasan dapat dikurangkan, dan risiko pembengkakan wafer juga dapat dikurangkan. Hasilnya ialah kelajuan pengeluaran yang lebih tinggi, dimensi wafer yang stabil, dan hasil pengeluaran yang dapat diramalkan.
Jika sistem ini digunakan 24/7, ia akan memberikan kebolehpercayaan yang tinggi, dengan masa henti yang minimum. Ini bermakna jumlah sisa produk akan berkurangan, dan kos pengeluaran setiap wafer akan turun. Itulah yang diharapkan oleh setiap pengurus kilang pengeluaran wafer pada akhir bulan.
Yang perlu diperhatikan tentang sinar inframerah ialah ia memerlukan pandangan langsung dari sumber cahaya ke wafer, serta pemetaan suhu yang teliti, terutama pada wafer yang mempunyai corak tertentu, di mana titik-titik panas mungkin tersembunyi. Integrasi sistem ini memerlukan penyesuaian kuasa, voltan, dan ukuran sumber cahaya agar sesuai dengan alat yang digunakan. Proses penyesuaian ini mudah dilakukan, tetapi masih perlu dilakukan pengukuran terhadap reflektiviti dan emisiviti ruang pengeluaran. Konveksi masih merupakan pilihan yang baik apabila perlu memanaskan objek yang besar dan tidak seragam.
Rancanglah kewangan yang berkaitan dengan penggunaan haba, pastikan kualiti udara di ruang pengeluaran memenuhi standard yang ditetapkan, dan pastikan spektrum cahaya yang digunakan sesuai dengan bahan yang digunakan. Dengan cara ini, proses pengeluaran akan berjalan dengan lancar dari satu proses ke proses yang lain.