Di lantai pengeluaran, kelembapan yang masih ada selepas proses pembersihan, serta pertumbuhan oksida semula jadi pada permukaan wafer, akan mengganggu daya lekat bahan fotoresist sebelum anda sempat menyedarinya. Satu titik panas yang kecil sahaja sudah cukup untuk merosakkan proses pembakaran bahan fotoresist tersebut. Akibatnya, ketebalan lapisan fotoresist tidak akan konsisten, dan ini akan memberi kesan negatif terhadap kualiti wafer yang dihasilkan. Kami telah mencipta pemanas inframerah khas untuk mengatasi masalah ini.
Apa yang penting dari segi teknikal
Pemanas ini menggunakan pancaran inframerah gelombang pendek melalui laluan optik tanpa menggunakan kuarsa, agar tiada zarah-zarah asing yang terkumpul pada permukaan wafer. Ini memastikan suhu pada wafer tetap konsisten dalam lingkungan ±0.1°C, sehingga proses pembakaran bahan fotoresist dapat berjalan dengan lancar. Tindak balas pemanas ini sangat cepat, jadi ia boleh digunakan untuk pelbagai proses pembakaran tanpa melebihi had suhu yang ditetapkan. Pemanas ini juga sesuai untuk digunakan dalam proses pembakaran jenis Soft Bake dan Hard Bake, serta boleh disambungkan ke sistem pengeringan lain.
Mengapa ia berkesan dalam praktiknya
Sebaik sahaja wafer dibersihkan dan dicuci, pemanas ini akan mengeringkan dan menstabilkan permukaan wafer tersebut. Kawalan suhu yang tepat memastikan ketebalan lapisan fotoresist tetap konsisten, dan mengurangkan variasi pada tepi lapisan fotoresist. Ini sangat penting apabila membuat cip logik atau memori berketepatan tinggi. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana haba disalurkan terus ke permukaan wafer tanpa perlu melalui lapisan yang panas. Kestabilan operasi pemanas ini juga dipastikan oleh reka bentuk yang baik dan kemudahan penyelenggaraan yang mudah.
Apa yang perlu dirancang
Pemanas ini memerlukan bekalan voltan yang stabil serta sistem penyejukan yang efektif untuk memastikan konsistensi suhu. Aliran udara yang konsisten dan komponen pemanas yang bersih juga sangat penting untuk prestasi termal yang baik. Selain itu, toleransi pemasangan haruslah ketat, dan saiz pemanas perlu sesuai dengan antaramuka alat pengendali wafer. Lakukan ujian awal untuk menyesuaikan kadar pemanasan mengikut jenis bahan fotoresist yang digunakan, kemudian tetapkan tetapan yang sesuai.