Op de lithografieafdeling is een temperatuurschommeling van 0,5°C tijdens het bakproces al voldoende om een hele lading producten onbruikbaar te maken. Bij een zachte bak wordt de oplossing uit het materiaal gehaald; bij een harde bak wordt het profiel vastgezet. Als de thermische uniformiteit niet goed is, zal de controle over de dichtheid van de deeltjes ernstig worden beïnvloed en zal het aantal deeltjes stijgen.
Wat we hebben gebouwd, en waarom dat belangrijk is
We hebben het bakmodule geplaatst op korte-golflengte NIR-emitters, gecombineerd met een kwartsversterkte thermische stack. Hierdoor wordt er een uniformiteit van ±0,1°C bereikt over het hele oppervlak van de wafer. De setpoint-stabiliteit blijft constant, dag en nacht. Het apparaat is geschikt voor gebruik in ruimtes van klasse 1 tot klasse 100. Tijdens het bakproces worden geen deeltjes vrijgegeven. De thermische condities zijn consistent tussen verschillende batches, omdat de temperatuurprofielen precies overeenkomen met de vereisten.
Waarom dit werkt in de productiestroom
Er kunnen zowel zachte als harde bakprocessen worden uitgevoerd op dezelfde thermische platform. Hierdoor wordt de variatie tussen ovens vermeden. Hierdoor wordt het proces efficiënter en wordt energieverbruik verminderd, want IR-straling verwarmt alleen het gewenste gebied, niet de hele kamer. De betrouwbaarheid van het apparaat is hoog: de componenten zijn ontworpen voor continu gebruik, en de emitterarray kan meer dan 5.000 uur werken zonder dat de prestaties onder de 5% dalen. Er zijn minder onderhoudswerkzaamheden nodig, en er is een consistente thermische controle voor elke wafer.
Wat je moet overwegen
Het module past gemakkelijk in bestaande systemen via standaardmechanische en elektrische interfaces. Echter, het heeft wel een aparte 24V-stuurlijn nodig, evenals een zuivere koeling om de thermische condities stabiel te houden. Voer eerst een kort testproces uit om de afwijkingen tussen de chuck en de wafer vast te stellen. Eenmaal dit gedaan, blijft de prestatie van het apparaat consistent, met minimale inmenging van de operator.