Op de lithografieafdeling geldt een regel: een afwijking van 0,5°C in de baktemperatuur zorgt er al voor dat de kritische dimensies van het product enkele nanometers veranderen. Dat betekent dat er veel afvalproducten ontstaan. We hebben de infraroodlamp uitgerust met een luchtnaadelaar, zodat de warmte precies op de juiste plek terechtkomt – op het wafer, over het hele oppervlak, shift na shift.
Precisie van infraroodverwarming: sub-millimeterprecisie en herhaalbaarheid
Het systeem maakt gebruik van kortegolflengte-infraroodemitters om energie snel in de fotoresist te brengen. De gesloten regeling houdt de temperatuur binnen ±0,1°C. Het kwartsgebaseerde ontwerp zorgt voor een stabiel en herhaalbaar thermisch profiel. Hierdoor blijft de precisie op het hele waferoppervlak hoog.
De geïntegreerde luchtnaadelaar creëert een laag met hoge snelheid over het oppervlak. Hierdoor wordt vocht en vuil weggehaald, zonder dat het wafer wordt aangetast. Dit maakt het mogelijk om te werken in schone ruimtes van klasse 1–100, zodat er minder vuildeeltjes beschikbaar zijn.
Waarom dit geschikt is voor半導体verwerking
Dit systeem is speciaal ontworpen voor de verwerking van fotoresist: zowel voor zachte als harde bakprocessen, en ook na de belichting. De luchtnaadelaar haalt vuil van het oppervlak voordat dit in de film terechtkomt. De infraroodwarmte zorgt ervoor dat de gewenste temperatuur steeds behouden blijft.
Dit leidt tot een betere controle over de kritieke dimensies, minder herwerkingen en een betrouwbare opbrengst. De apparatuur kan ook langdurig worden gebruikt: we hebben apparaten zien werken tot 5.000 uur, met minder dan 5% daling in de opbrengst.
Installatie- en bedrijfsinstructies
De lamp past in standaardhouders voor ovens. Echter, het is belangrijk om de positie van de lamp en de luchtcirculatie goed af te stellen. Er is een korte tijd nodig om de hoogte van de emitter en de afstand tussen de emitter en de luchtnaadelaar in te stellen, evenals om een temperatuurkaart te maken.
Zorg ervoor dat de drukverschillen in de schone ruimte en de ventilatie voldoende zijn om de extra luchtcirculatie aan te kunnen. Anders kan er sprake zijn van micro-turbulentie, wat de consistentie van het proces negatief beïnvloedt. Houd ook rekening met regelmatige kalibratie van de emitter – herhaalbaarheid in het proces komt niet zomaar vanzelf.