Trong quy trình nung phim phơi ảnh, sự thay đổi nhiệt độ chỉ 0,2°C cũng có thể làm giảm mức độ đồng đều của các lớp vật liệu được xử lý, và điều này xảy ra trước cả khi chúng ta có thể nhận thấy được trên các bảng biểu đồ. Chúng tôi đã thiết kế bộ gia nhiệt bằng laser để ngăn chặn sự thay đổi nhiệt độ này ngay từ đầu; bởi trong ngành này, việc kiểm soát nhiệt độ không chỉ là yếu tố hỗ trợ mà chính là một phần không thể thiếu trong quy trình sản xuất.
Độ chính xác cao: Đồng đều ở mức dưới một milimét, có thể lặp lại được
Chúng tôi kết hợp công nghệ phát sóng ánh sáng hồng ngoại gần với phương pháp gia nhiệt bằng tấm wafer có khối lượng nhiệt thấp. Nhờ đó, trường nhiệt được duy trì ở mức ổn định, với độ chênh lệch giữa các điểm khác nhau trên bề mặt wafer ở mức dưới một milimét. Trên toàn bộ vùng xử lý, độ đồng đều của nhiệt độ đạt mức ±0,1°C, và tính lặp lại của quy trình cũng rất cao, ngay cả khi thực hiện nhiều lần liên tiếp.
Phản ứng của hệ thống rất nhanh và dễ dự đoán; do đó, các thông số nhiệt độ trong quá trình nung vẫn được duy trì ổn định, không xảy ra tình trạng vượt quá giới hạn cho phép. Không cần phải điều chỉnh liên tục các thông số nhiệt độ nữa.
Tại sao phương pháp này hiệu quả trong quy trình in ấn và nung phim phơi ảnh?
Trong quy trình in ấn, tính chất của phim phơi ảnh phụ thuộc vào lịch sử nhiệt độ, chứ không chỉ phụ thuộc vào giá trị nhiệt độ được thiết lập trên màn hình hiển thị. Bộ gia nhiệt bằng laser của chúng tôi giúp duy trì sự ổn định của lịch sử nhiệt độ này, từ đó giảm thiểu sự biến đổi về độ dày của các lớp vật liệu được xử lý và bảo vệ những lớp vật liệu quan trọng nhất.
Hệ thống hoạt động trong môi trường phòng sạch loại 1–100, không tạo ra bất kỳ hạt bụi nào, và có con đường ánh sáng được đóng kín. Nhờ đó, không có khả năng xảy ra tình trạng nhiễm bẩn trong quá trình xử lý. Kết quả là hệ thống hoạt động ổn định 24/7, tiêu thụ ít năng lượng hơn, và giảm số lần thay thế linh kiện – mà vẫn giữ được chất lượng xử lý.
Lắp đặt và tính tương thích: Chuẩn bị cho quy trình sản xuất thực tế
Thiết bị này có thể được lắp đặt ngay vào các hệ thống xử lý wafer hiện có, nhưng vẫn cần được định vị chính xác và lắp đặt trong môi trường phòng sạch. Hiệu suất nhiệt của thiết bị phụ thuộc vào việc thiết lập đúng giá trị độ phản xạ ánh sáng và kiểm soát tốt nhiệt độ môi trường xung quanh.
Chỉ cần một thời gian ngắn để khởi động hệ thống và xác nhận mức độ đồng đều của nhiệt độ. Một khi đã được calibrate, quy trình sẽ hoạt động ổn định, không cần phải điều chỉnh liên tục nữa.