MEMS 웨이퍼를 문제 없이 건조시키는 방법
MEMS 센서를 제조할 때 가장 원치 않는 것은 불필요한 수분이나 용매로 인해 작업이 망가지는 것입니다. 하지만 문제는, 웨이퍼를 완전히 건조시키면서도 웨이퍼에 손상을 주거나 오염물질이 들어가는 것을 막아야 한다는 점입니다.
그래서 우리는 단파 적외선 히터를 사용합니다. 방 전체를 가열하는 방식은 시간과 에너지 낭비일 뿐입니다. 반면 적외선은 에너지를 웨이퍼 표면에 직접 전달합니다. 이 방식은 효율적이고 깔끔합니다.
왜 이 방식이 효과적인가?
일반적인 대류식 오븐의 경우, 에너지의 절반이 공기를 가열하는 데 사용됩니다. 이는 비효율적입니다. 반면 적외선은 물 분자를 진동시켜 빠른 증발을 유도합니다. 열이 정확하게 전달되기 때문에, 장비도 크지 않아도 됩니다. 게다가 VOC나 에너지 소모가 많은 장비 대신 적외선을 사용하면 좋습니다. 화학 촉매나 복잡한 공기 순환 시스템도 필요 없습니다.
온도 조절의 중요성
단순히 열을 높이는 것만으로는 충분하지 않습니다. 온도 상승 속도도 신중하게 조절해야 합니다. 강력한 램프는 처리 속도를 높이는 데 유용하지만, 램프의 위치가 잘못되거나 전력 제어가 제대로 되지 않으면 ‘핫 스팟’이 생깁니다. 300mm 웨이퍼의 경우, 이로 인해 섬세한 MEMS 구조가 손상될 수 있습니다.
이를 방지하기 위해 우리는 정밀한 PID 컨트롤러를 사용합니다. 또한 진공 상태나 불활성 가스를 사용하여 웨이퍼가 산화되는 것을 막습니다. 모든 것은 정확한 제어에 달려 있습니다.
귀사의 생산 라인에 맞게 적용하기
우리는 이러한 시스템들을 기존의 불편한 열처리 오븐을 대체할 수 있는 간단한 솔루션으로 만들었습니다. 석영 코팅을 사용하여 금속 이온이 웨이퍼에 닿는 것을 막습니다. 배선도 효율적입니다. 시스템은 몇 밀리초 안에 켜지거나 꺼질 수 있으므로, 웨이퍼가 목표 온도를 초과하여 제품이 손상될 걱정도 없습니다.
램프가 고장 나더라도 전체 건조 라인을 분해할 필요는 없습니다. 그냥 모듈만 교체하면 다시 작업을 시작할 수 있습니다.