บนพื้นที่การผลิต อุณหภูมิไม่ใช่ตัวแปรที่ปรับเปลี่ยนได้ตามใจชอบ แต่เป็นสเปกที่ต้องปฏิบัติตาม การเบกโฟโต้เรซิสต์ทั้ง soft bake และ hard bake...

บนพื้นเวเฟอร์ โปรไฟล์การอบฟิล์มโฟโตเรซิสจะถูกวัดเป็นองศา ไม่ใช่ความคิดเห็น การเบี่ยงเบน 2°C...

บนชั้นลิโธกราฟี เวลาไม่เคยเป็นฝ่ายคุณ การอบแบบ soft bake ที่คลาดเคลื่อนเพียง 2°C จะทำให้อัตราการระเหยของตัวทำละลายผิดปกติ...