Dalam proses litografi, perubahan suhu sebanyak 0.5°C sahaja sudah cukup untuk menyebabkan perubahan pada dimensi kritikal cip tersebut, iaitu dalam lingkungan nanometer. Ini bermakna banyak bahan yang tidak berkualiti akan terhasil. Kami telah mencipta lampu inframerah yang dilengkapi dengan alat udara berkelajuan tinggi, agar suhu dapat dikawal dengan tepat pada permukaan wafer, dari satu giliran ke giliran yang lain.
Ketepatan pemanasan inframerah: Ketepatan dan kebolehulangan yang sangat tinggi, hingga tahap sub-milimeter. Sistem ini menggunakan pemancar gelombang pendek untuk menghantar tenaga secara langsung ke lapisan fotoresist, dengan cepat. Kawalan berterusan memastikan suhu tetap berada dalam lingkungan ±0.1°C. Reka bentuk berdasarkan kuarsa membantu mengekalkan profil haba yang stabil dan konsisten, serta memastikan keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer.
Alat udara berkelajuan tinggi ini membantu menghilangkan kelembapan dan zarah-zarah yang ada di permukaan wafer, tanpa perlu menyentuh wafer itu sendiri. Dengan cara ini, proses boleh dilakukan dalam bilik bersih kelas 1–100, dan jumlah zarah yang terkumpul dapat dikurangkan.
Mengapa ia sesuai untuk pemprosesan semikonduktor: Sistem ini direka khusus untuk pemprosesan fotoresist – sama ada proses pemanasan lembut, pemanasan keras, atau proses selepas pendedahan cahaya. Alat udara berkelajuan tinggi membantu menghilangkan kotoran dari permukaan wafer sebelum ia diproses, manakala haba inframerah pula memberikan suhu yang tepat setiap kali proses berlangsung.
Hasilnya adalah kawalan dimensi cip yang lebih baik, pengurangan jumlah bahan yang perlu dibuang, dan kadar pengeluaran yang lebih konsisten. Unit ini juga tahan lama; kami pernah melihat unit ini beroperasi selama 5,000 jam tanpa penurunan prestasi melebihi 5%.
Nota pemasangan dan operasi: Lampu ini boleh dipasang menggunakan alat standard, tetapi penyesuaian kedudukan dan aliran udara sangat penting. Anda perlu meluangkan masa untuk menetapkan ketinggian pemancar, jarak antara pemancar dan alat udara, serta membuat peta suhu. Pastikan tekanan udara di bilik bersih cukup untuk menampung aliran udara tambahan tersebut. Jika tidak, akan timbul turbulensi yang boleh mengganggu konsistensi proses pemanasan. Selain itu, pastikan pemancar sentiasa dikalibrasi secara berkala – kebolehulangan proses hanya dapat dicapai melalui penyesuaian yang berkala.