Proses pembakaran bahan fotoresist yang efektif menggunakan gelombang inframerah.
Di tahap litografi, perubahan suhu semasa proses pembakaran sebanyak 0.5°C sudah cukup untuk memusnahkan keseluruhan kumpulan wafer yang diproses....
Lampu pembakar pelapis putar
Pada lantai litografi, proses bake bukanlah jeda—ia adalah garis pemisah. Soft bake menghilangkan pelarut photoresist. Hard bake mengunci imej topeng...