Trong quy trình in ấn bằng phương pháp lithography, sự chênh lệch nhiệt độ 0,5°C trong quá trình sấy khô không phải là con số nhỏ chút nào. Điều này dẫn đến việc giảm tỷ lệ sản phẩm đạt tiêu chuẩn – điều này có thể được nhận thấy rõ qua biểu đồ về mức độ đồng đều của bề mặt wafer và qua số lượng sản phẩm bị hỏng. Các bộ sưởi ở máy phủ chất phản ứng và máy xử lý chất phản ứng cần phải duy trì độ ổn định nhiệt độ nhất quán với các thiết bị quang học và lớp chất phản ứng.
Chúng tôi thiết kế bộ sưởi này sao cho có thể kiểm soát nhiệt độ ở mức từng wafer riêng lẻ. Các bộ phát tia hồng ngoại hoạt động trực tiếp lên wafer, giúp giảm thời gian sấy khô mà vẫn duy trì được độ ổn định nhiệt độ. Mức độ đồng đều của nhiệt độ trên bề mặt wafer vẫn nằm trong khoảng ±0,1°C – điều này có nghĩa là các vùng ở rìa wafer cũng nhận được cùng một mức nhiệt độ như các vùng ở giữa wafer.
Thiết bị này được thiết kế để hoạt động trong môi trường sạch: các bộ phận được bao bọc bằng thủy tinh, và cấu trúc của thiết bị giúp giảm lượng khí thoát ra, phù hợp với môi trường loại 1–100. Các hạt bụi sẽ không thể vào được bên trong thiết bị nhờ vào các kết nối kín và hệ thống dòng khí thông minh. Độ tái tạo cao được đảm bảo nhờ vào việc kiểm soát nhiệt độ tại bề mặt wafer, chứ không phải dựa vào các giả định về bộ sưởi.
Trong quy trình phủ chất phản ứng và xử lý chất phản ứng, thời gian và nhiệt độ là hai yếu tố quan trọng. Bộ sưởi hồng ngoại giúp rút ngắn thời gian sấy khô mà vẫn duy trì được độ ổn định nhiệt độ. Nhờ đó, có thể thực hiện các chu trình sản xuất nhanh hơn mà vẫn duy trì được độ chính xác trong việc điều chỉnh kích thước của wafer. Chất lượng lớp chất phản ứng cũng được duy trì ổn định từ lô này sang lô khác, giúp giảm số lượng sản phẩm bị hỏng và ít cần phải điều chỉnh lại.
Việc này cũng giúp giảm chi phí điện năng. Vì năng lượng được sử dụng trực tiếp vào wafer, nên lượng nhiệt lãng phí trong thiết bị giảm đi. Độ tin cậy của thiết bị được đảm bảo nhờ vào việc hoạt động liên tục 24/7, với các khoảng thời gian bảo trì dự đoán được. Nhờ đó, bạn không phải đối mặt với tình trạng thiết bị ngừng hoạt động đột ngột, gây ảnh hưởng đến việc sản xuất wafer.
Việc lắp đặt thiết bị cần chú ý đến các chi tiết nhỏ: cần đảm bảo rằng giao diện kết nối với thiết bị phù hợp, và điện áp cung cấp ổn định. Bộ sưởi cần được hoạt động trong môi trường khí sạch, khô ráo; sự dao động điện áp có thể khiến quá trình sấy khô kéo dài hơn.
Chúng tôi cung cấp bộ dụng cụ hiệu chuẩn và các mẫu công thức sử dụng cho các loại chất phản ứng phổ biến. Tuy nhiên, việc điều chỉnh cuối cùng vẫn cần dựa trên các kết quả đo lường và kiểm tra chất lượng của từng lô sản phẩm.