Trong quá trình sản xuất, một lượng hơi ẩm nhỏ còn sót lại sau khi làm sạch, cùng với sự phát triển trở lại của lớp oxit tự nhiên trên bề mặt wafer, có thể làm giảm khả năng bám dính của chất phủ quang học. Chỉ cần một điểm nóng nhỏ thôi cũng đủ khiến quy trình xử lý wafer bị sai lệch. Những hậu quả của việc này là sự suy giảm chất lượng wafer sau khi gia công, hoặc xuất hiện các vấn đề liên quan đến cấu trúc bề mặt wafer trong quá trình in ấn. Chúng tôi đã thiết kế máy sưởi bằng tia hồng ngoại để loại bỏ những yếu tố gây ổn định không tốt này.
Những yếu tố quan trọng về mặt kỹ thuật: Máy sử dụng các bộ phát tia hồng ngoại tần số thấp, và ánh sáng này được truyền qua con đường quang học không chứa thạch anh, nhờ đó không có hạt bẩn nào được tạo ra. Điều này giúp duy trì mức độ sạch cần thiết cho các phòng sạch loại 1–100. Độ đồng đều về nhiệt độ trên toàn bề mặt wafer được duy trì ở mức ±0,1°C, nhờ đó quy trình xử lý wafer có thể được thực hiện một cách chính xác và lặp lại được trong nhiều lần. Tốc độ phản ứng của máy rất nhanh, vì vậy bạn có thể điều chỉnh nhiệt độ mà không làm vượt quá giới hạn nhiệt độ cho phép. Máy này có thể xử lý cả các quy trình xử lý kiểu Soft Bake và Hard Bake, và có thể được tích hợp vào các hệ thống sấy tự động.
Tại sao nó hiệu quả trong thực tế: Ngay sau khi làm sạch và rửa wafer, máy sẽ làm khô và điều chỉnh bề mặt wafer ngay tại chỗ, giúp ổn định bề mặt wafer trước khi tiến hành quy trình phủ chất phủ quang học. Việc kiểm soát nhiệt độ chính xác giúp đạt được độ đồng đều cao hơn trong độ dày của lớp chất phủ quang học, đồng thời giảm thiểu sự biến đổi về kích thước các chi tiết trên bề mặt wafer – điều rất quan trọng khi sản xuất các linh kiện logic có kích thước nhỏ hoặc bộ nhớ có khoảng cách giữa các điểm kết nối nhỏ. Mức tiêu thụ năng lượng cũng giảm xuống, vì nhiệt lượng được truyền trực tiếp vào bề mặt wafer mà không gây ra sự tích tụ nhiệt. Thời gian hoạt động ổn định nhờ vào tuổi thọ cao của các bộ phát nhiệt và khả năng bảo trì dễ dàng, nhờ đó không xảy ra tình trạng gián đoạn quá trình sản xuất.
Những điều cần lưu ý khi lập kế hoạch: Máy này cần nguồn điện ổn định và hệ thống làm mát hiệu quả để đảm bảo độ chính xác trong việc duy trì nhiệt độ. Dòng khí luân chuyển ổn định và các bộ phận phát nhiệt sạch sẽ là yếu tố không thể thiếu để đảm bảo hiệu suất làm việc tốt. Độ chính xác trong việc lắp đặt rất quan trọng, và kích thước của máy cũng cần phải phù hợp với các thiết bị xử lý wafer. Hãy tiến hành thử nghiệm ngắn để điều chỉnh tốc độ gia nhiệt phù hợp với loại chất phủ quang học được sử dụng, sau đó cố định các thông số kỹ thuật của máy.