V prostředí lithografie platí určitá pravidla. Už poloviční odchylka o půl stupně během zahřívání fotorezisty stačí k tomu, aby se stabilní proces změnil v problém s kvalitou výsledku. Specifikace pro měkké a tvrdé zahřívání jsou stanoveny právě proto – rovnoměrnost teploty totiž určuje šířku linií na povrchu waferu. A tato kontrola začíná už u systému infračervených lamp.
Co je vlastně důležité U infračervených lamp stanovujeme parametry hliníkového reflektoru tak, aby poskytoval teplo, které je reprodukovatelné a rovnoměrné v prostoru. Geometrie reflektoru je upravena tak, aby osvětlovací profil odpovídal požadavkům waferu – rovnoměrnost teploty činí ±0,1 °C. Povrch reflektoru je pasivován a uzavřen, takže může být použit v čistých prostorách třídy 1–100 bez rizika uvolňování plynů.
Vznik částic je minimální díky spojené, neodpadávající reflexní vrstvě a monolitickému uzavření okrajů. Výsledkem je stabilní emisivita, předvídatelné tepelné spojení a spolehlivý výkon při každém zahřívání.
Proč to funguje při zpracování fotorezisty Tento reflektor umožňuje udržet rovnoměrnost teploty, což zajišťuje správnou kontrolu kritických rozměrů. Vysoká rovnoměrnost snižuje počet vadné produkce a pomáhá zkrátit dobu kalibrace. Kompatibilita s čistými prostory zase zabraňuje vzniku částic, čímž chráníme retikulu i wafer.
Spolehlivost je zajištěna samotnými materiály. Reflektor udržuje stabilitu výstupního tepla po dobu více než 5 000 hodin, což znamená méně nečekaných problémů a méně nefunkčních dob. Spotřeba energie také klesá, protože geometrie reflektoru soustředí teplo tam, kde je potřeba – nikoliv na konstrukce nebo stěny komory.
Praktické detaily, které potřebujete vědět Reflektor funguje s krátkovlnnými i střednovlnnými infračervenými lampami, ale je potřeba sladit spektrální výstup lampy a geometrii komory s požadavky fotorezisty. Tolerance instalace jsou velmi nízké – zarovnání a vzdálenost mezi lampou a reflektorem přímo ovlivňují rovnoměrnost.
Po výměně lampy je potřeba nechat celý systém chvíli „vychladnout“. Opakovatelnost zahřívání závisí na tom, zda necháte celý systém plně stabilizovat se předtím, než začnete s výrobou.