공장 내에서는, 포토레지스트를 가열하는 온도가 0.2°C만 변동해도, 그로 인해 CD의 균일성과 생산성이 저하됩니다. 이러한 변동은 수치상으로는 드러나지 않을 수 있습니다. 우리는 이러한 변동이 발생하는 것을 막기 위해 반도체 레이저 다이오드 히터를 개발했습니다. 왜냐하면 이 분야에서는 열 제어가 단순한 보조 장치가 아니라, 공정 자체의 필수적인 요소이기 때문입니다.
적외선 정밀도: 서브밀리미터급의 균일성 및 반복성 우리는 근적외선(NIR) 방출 기술과 낮은 열용량을 가진 웨이퍼 가열 기술을 결합하여, 열 분포를 매우 정확하게 유지합니다. 그 결과, 웨이퍼 전체의 균일도는 ±0.1°C 이내로 유지되며, 로트 간에도 일관된 성능을 보입니다. 반응 속도도 빠르고 예측 가능하기 때문에, 소프트 베이크와 하드 베이크 과정에서도 설정된 값에 따라 작동하며, 오차가 발생하지 않습니다.
리소그래피 및 포토레지스트 가열 과정에서의 효과 리소그래피 과정에서 포토레지스트의 성능은 디스플레이에 표시된 설정값보다는 온도 변화에 의해 결정됩니다. 우리의 레이저 다이오드 히터는 이러한 온도 변화를 안정적으로 유지해 주어, 회선 폭의 변동을 줄이고 가장 중요한 층들을 보호해 줍니다. 이 장비는 입자가 전혀 발생하지 않는 Class 1–100 등급의 클린룸에서 작동하며, 밀폐된 광학 경로 덕분에 오염물질이 열 관리 과정에 영향을 미치지 못합니다. 그 결과, 24/7 연속 가동이 가능하며, 에너지 소비도 줄어들고, 소모품 교체 횟수도 줄어듭니다. 물론, 가열 품질은 그대로 유지됩니다.
설치 및 호환성: 실제 생산 환경을 고려한 설계 이 장비는 기존의 웨이퍼 트랙 및 가열 모듈에 손쉽게 설치될 수 있지만, 정확한 정렬과 클린룸에 적합한 설치가 필요합니다. 열 성능은 발열율을 올바르게 설정하고 주변 온도를 잘 조절하는 데 달려 있습니다. 설정을 마치면 공정이 반복적으로 작동하므로, 계속해서 조정할 필요가 없습니다.