Op de productielijn heeft een verschil van 0,2°C in de temperatuur tijdens het bakken van de fotoresist gevolgen voor de uniformiteit en de kwaliteit van het eindproduct. Dit verschil is al merkbaar voordat het op de metingen te zien is. We hebben onze halfgeleiderlaserdiodeverwarmers ontworpen om dit soort verschillen vanaf het begin tegen te gaan. In deze branche is thermische controle geen hulpsysteem – het is juist essentieel voor het proces.
Infraroodprecisie: sub-millimeteruniformiteit en herhaalbaarheid
We combineren infraroodstraling met een lage-thermische massa van de wafer, zodat het thermische veld stabiel blijft – op sub-millimeterniveau. Hierdoor wordt het verschil tussen randen en het midden van de wafer verminderd. Over de hele actieve zone is er een uniformiteit van ±0,1°C. Bovendien is de herhaalbaarheid hoog, zodat de kwaliteit consistent blijft, ongeacht of het om verschillende batches gaat.
De reactietijd is snel en voorspelbaar. Hierdoor blijven de vereiste temperaturen behouden, zonder dat er sprake is van overdreven temperatuurstijgingen. Er is dus geen nodig om voortdurend aan de instellingen te trekken.
Waarom het werkt in lithografie en het bakken van fotoresist
In lithografie wordt het gedrag van de fotoresist bepaald door de temperatuurhistorie, en niet alleen door de ingestelde temperatuurwaarde. Onze laserdiodeverwarmers houden deze temperatuurhistorie stabiel, waardoor de variatie in de dikte van de laagjes wordt verminderd en de belangrijkste lagen worden beschermd.
De apparaten kunnen worden gebruikt in cleanrooms van klasse 1–100, waarbij er geen vuildeeltjes worden gegenereerd en de optische path gevuld is met een afgesloten systeem. Hierdoor kan er geen vervuiling binnendringen in het thermische systeem. Het resultaat is een betrouwbare werking 24/7, minder energieverbruik en minder vervangingen van onderdelen – zonder dat de kwaliteit van het proces wordt aangetast.
Installatie en compatibiliteit: klaar voor gebruik in de echte productielijn
De apparaten kunnen gemakkelijk worden geïnstalleerd in bestaande wafertrack- en bakmodules. Toch is nauwkeurige alignering en installatie in een cleanroom vereist. De thermische prestaties hangen af van de juiste instellingen van de emissiviteit en van het goed beheersen van de omgevingstemperatuur.
Er zal een korte inrichtingsfase nodig zijn om de instellingen te bepalen en de uniformiteit te controleren. Eenmaal gekalibreerd, blijft het proces herhaalbaar – er is geen constante aanpassing meer nodig.