Litografi işlemlerinde bilindiği gibi, fırın sıcaklığında 0,5°C’lik bir değişiklik bile kritik boyutların nanometrelerce değişmesine neden olur. Bu da hızla çok fazla atık üretimine yol açar. Termal etkileri kontrol altında tutmak için kızılötesi lambayı hava bıçağı ünitesiyle birlikte tasarladık; böylece termal enerji doğru yerde kalır – yani wafer üzerinde, her işlemde sabit kalır.
Kızılötesi ısıtma hassasiyeti: Milimetrün altında düzgünlük ve tekrarlanabilirlik
Sistem, enerjiyi hızla fotoresiste aktarmak için kısa dalga boylu NIR vericiler kullanır. Kapalı döngü kontrolü sayesinde ayarlanan sıcaklık ±0,1°C aralığında sabit kalır. Kuvars tabanlı tasarım ise termal profili stabil ve tekrarlanabilir kılar; ayrıca wafer üzerinde milimetrün altında düzgünlük sağlayarak desenlerin netliğini artırır.
Entegre hava bıçağı, yüzey üzerinde yüksek hızda ve düzgün bir şekilde hava akışı sağlar. Böylece wafer temas edilmeden nem ve partiküller uzaklaştırılır; bu sayede 1–100 sınıfı temiz odalarda çalışılabilir ve partikül sayısı azaltılabilir.
Neden yarı iletken işlemleri için uygundur?
Bu sistem, yumuşak fırınlama, sert fırınlama ve maruziyet sonrası fırınlama işlemleri için tasarlanmıştır. Hava bıçağı, kirleticilerin filmin içine işlemesinden önce yüzeyden uzaklaştırılır; kızılötesi ısı ise her seferinde istenen termal enerjiyi sağlar.
Bunun sonucunda daha iyi CD kontrolü, daha az yeniden işlem gereksinimi ve planlanabilir verimlilik elde edilir. Bu ünite ayrıca uzun süreli kullanıma da uygun; 5.000 saatten fazla çalışmasına rağmen verimlilik kaybı %5’in altındadır.
Montaj ve kullanım notları
Lamba, standart raylı sistemlere ve fırın bloklarına monte edilebilir; ancak hizalama ve hava akışının ayarlanması önemlidir. Verici yüksekliği, hava bıçağı aralığı ve sıcaklık haritasının belirlenmesi için kısa bir kurulum süresi gereklidir.
Temiz oda basınç farkının ve egzoz sisteminin ekstra hava akışını karşılayabileceğinden emin olun. Aksi takdirde mikro türbülanslar ortaya çıkarak fırınlama sürecini olumsuz etkiler. Ayrıca düzenli olarak verici kalibrasyonu yapılmalıdır; çünkü süreç adımları arasındaki tekrarlanabilirlik tesadüfen oluşmaz.