在光刻工艺中，烘烤温度只要出现0.5°C的偏差，就足以导致整批产品报废。所谓“软烘烤”，其实就是让溶剂充分蒸发；而“硬烘烤”则是为了固定产品的尺寸参数。一旦温度均匀性出现问题，CD控制就会失灵，颗粒数量也会随之增加。
我们的解决方案及其重要性 我们采用了带有石英增强的短波近红外发射器的烘烤模块。这样就能确保晶圆表面的温度均匀性保持在±0.1°C以内，同时还能保持设定温度的稳定性，不受时间影响。该模块适用于从1级到100级的洁净室环境，而且在烘烤过程中不会产生任何颗粒物。光阻材料的加热过程也具有重复性，温度曲线能够完全符合工艺要求。
为什么这种方案有效 由于软烘烤和硬烘烤都在同一个加热平台上进行，因此可以消除不同烤箱之间的差异。这样一来，工艺窗口就会变得更窄，产品报废率也会降低。此外，由于是红外线来加热目标物体，而非整个腔体，因此能耗也会降低。该模块的可靠性很高，其组件能够持续工作5,000小时以上，且性能下降幅度不到5%。这样一来，就不需要频繁进行维护，从而实现每块晶圆的稳定加热控制。
需要考虑的因素 该模块可以通过标准的机械和电气接口接入现有设备中，但它需要一条专用的24伏控制线路，以及稳定的冷却系统，以维持其工作状态。还需要进行初步测试，以确定晶圆与加热平台之间的位置关系。一旦这些参数得到调整，那么烘烤过程的稳定性就能得到保障，几乎不需要操作员介入。