लिथोग्राफी प्रक्रिया में, फोटोरेजिस्ट को गर्म करने के दौरान 0.5°C का अंतर ही परिणामस्वरूप चिह्नित आयामों में नैनोमीटर स्तर पर परिवर्तन हो सकता है; ऐसे में पूरी प्रक्रिया ही व्यर्थ हो जाती है। हम ठीक इसी समस्या को दूर करने हेतु ही हीटर बनाते हैं। एक सेमीकंडक्टर हीटर आपूर्तिकर्ता के रूप में, हम ऐसी थर्मल प्रणालियाँ डिज़ाइन करते हैं, जो वेफर के तापमान को “सॉफ्ट बेक”, “हार्ड बेक” एवं “पोस्ट-बेक” प्रक्रियाओं के दौरान भी स्थिर रखती हैं… बिना क्लास 1–100 क्लीनरूम को नुकसान पहुँचाए।
वास्तव में क्या महत्वपूर्ण है?
हमारा लक्ष्य वेफर स्तर पर ±0.1°C की थर्मल एकरूपता है… यह मापन प्रक्रिया की सतह पर ही किया जाता है, हीटर के अंदर नहीं। त्वरित प्रतिक्रिया वाले शॉर्ट-वेव/मीडियम-वेव तत्व, थर्मल स्थिरता को बनाए रखने में मदद करते हैं… जबकि क्वार्ट्ज एवं उच्च शुद्धता वाले सिरेमिक घटक, गैस उत्सर्जन एवं कणों के निर्माण को रोकते हैं… ताकि कोई वृद्धि न हो। क्लीनरूम में उपयोग हेतु उपयुक्त माउंटिंग एवं सुरक्षित वायरिंग, क्लीनरूम में कणों की संख्या को नियंत्रित करने में मदद करती है। नियंत्रण प्रणाली ऐसी होती है कि हर बार प्रक्रिया वैसी ही हो… बार-बार।
बड़े पैमाने पर उत्पादन में…
फोटोरेजिस्ट को गर्म करने की प्रक्रिया में एकरूपता होने से, लाइन-विड्थ में होने वाले परिवर्तनों के कारण होने वाली समस्याएँ कम हो जाती हैं। बेहतर एकरूपता के कारण किनारों पर दोष कम हो जाते हैं, एवं उत्पादन दर भी बेहतर हो जाती है। स्थिर एवं पुनरावृत्ति योग्य तापमान नियंत्रण, प्रक्रिया को जल्दी पूरा करने में मदद करता है… एवं अतिरिक्त ऊर्जा की खपत भी कम हो जाती है।
ये हीटर…
ये हीटर 24/7 काम करते हैं, एवं इनकी रखरखाव लागत भी कम है… इसलिए निरंतर उत्पादन प्रक्रिया में कोई बाधा नहीं आती।
कुछ व्यावहारिक टिप्स…
ये हीटर विशिष्ट चैंबर आकारों एवं वोल्टेज स्तरों हेतु ही डिज़ाइन किए गए हैं। यदि इन्हें ऐसे चैंबरों में लगाया जाए, जिसके लिए ये डिज़ाइन नहीं किए गए हैं, तो एकरूपता खो जाएगी… एवं इंटरफेस की स्वच्छता भी प्रभावित होगी। इन्हें ठीक वैसे ही ऑर्डर करें, जैसा कि आवश्यक है… फिर इंस्टॉलेशन के बाद तुरंत थर्मल मैपिंग करें, ताकि प्रक्रिया सही तरीके से हो सके।