Di ruang pengeluaran, perubahan suhu semasa proses pembakaran bahan photoresist sebanyak 0.2°C sahaja sudah cukup untuk merosakkan keseragaman ciri-ciri komponen tersebut, sebelum ia dapat dilihat pada graf yang digunakan untuk pemantauan. Kami mencipta pemanas berbentuk laser diod untuk menghalang perubahan suhu tersebut daripada berlaku, kerana dalam industri ini, kawalan suhu bukan sekadar sistem sokongan, tetapi merupakan sebahagian daripada proses pengeluaran itu sendiri.
Ketepatan inframerah: Keseragaman pada tahap sub-milimeter, boleh diulang
Kami menggunakan teknologi pelepasan cahaya inframerah untuk memanaskan wafer dengan cara yang efektif, sehingga medan haba kekal stabil pada tahap sub-milimeter. Ini memastikan keseragaman pada tahap ±0.1°C di seluruh permukaan wafer, dan hasilnya boleh diulang setiap kali proses pengeluaran dilakukan. Tindak balasnya cepat dan boleh diramal, jadi proses pembakaran dapat berjalan dengan tepat tanpa perlu penyesuaian berterusan.
Mengapa cara ini berkesan dalam proses litografi dan pembakaran bahan photoresist
Dalam proses litografi, tingkah laku bahan photoresist dipengaruhi oleh sejarah suhu, bukan hanya nilai suhu yang ditetapkan. Pemanas berbentuk laser diod kami membantu menstabilkan sejarah suhu tersebut, sekaligus mengurangkan variasi ketebalan lapisan bahan photoresist dan melindungi lapisan-lapisan yang penting. Peralatan ini berfungsi dengan baik dalam bilik bersih kelas 1–100, tanpa menghasilkan zarah-zarah kontaminan, dan laluan optiknya tertutup rapat, sehingga kontaminasi tidak dapat masuk ke dalam sistem pengeluaran. Hasilnya, peralatan ini dapat beroperasi secara berterusan 24/7, dengan penggunaan tenaga yang lebih rendah, serta memerlukan penggantian bahan habis pakai yang lebih sedikit—tanpa mengorbankan kualiti pembakaran.
Pemasangan dan keserasian: Persediaan untuk penggunaan sebenar
Peralatan ini direka untuk dipasang pada sistem pengeluaran wafer yang sedia ada, namun ia masih memerlukan penyesuaian yang tepat serta pemasangan yang sesuai dengan standard bilik bersih. Prestasi pemanas bergantung pada penetapan nilai emisiviti yang betul serta kawalan suhu persekitaran. Proses penyesuaian awal akan memastikan prestasi peralatan yang stabil. Setelah disetel, proses pengeluaran dapat diulang tanpa perlu penyesuaian berterusan.