リソグラフィー工程においては、ご存知の通り、フォトレジストを加熱する際にウエハがわずか0.5度だけでもずれてしまうと、安定していた工程が問題を引き起こす原因となります。そのため、ソフトベイクやハードベイクの条件を厳格に管理するのです。なぜなら、温度の均一性こそが線幅の精度を決定するからです。そして、この制御はIRランプシステムから始まります。
実際に重要なのは何か IRランプ用のアルミニウム反射板は、再現性があり、空間的にも安定した熱を供給するように設計されています。その形状は、照明の分布がウエハ上で均一になるように調整されており、±0.1℃の精度を実現しています。また、表面はパッシベーション処理が施され、密封されているため、クラス1～100のクリーンルーム内で使用してもガスが漏れ出ることはありません。
粒子の発生も、接着されていて剥がれない反射層や一体型のエッジシールによって防がれます。その結果、安定した放射率と予測可能な熱伝達が実現し、毎回同じような性能が得られます。
なぜフォトレジスト処理に適しているのか この反射板によって熱の分布が制御されるため、重要な寸法の管理が容易になります。均一性が高いため、エッジ部分の不良が減少し、試作サイクルの短縮にもつながります。また、クリーンルームとの相性も良く、粒子数が少ないため、レチクルやウエハを保護することができます。
信頼性も材料自体に組み込まれています。反射板は5,000時間以上にわたって出力の安定性を維持できるため、スケジュール上の問題や予期しない停止時間が減少します。また、熱が必要な場所にだけ集中するため、エネルギー消費も削減されます。
実際に必要な詳細 この反射板は短波長および中波長のIRランプと併用できますが、ランプのスペクトル出力やチャンバーの形状を、目指すフォトレジストの熱特性に合わせる必要があります。取り付け時の許容範囲も狭く、位置合わせやランプと反射板の距離が均一性に直接影響します。
ランプを交換した後は、短時間の熱安定化の時間を設ける必要があります。ベイクの再現性は、アセンブリが完全に安定するまで待つことによって確保されます。