実際に重要な場所により多くの熱を与える：金メッキされたIRエミッター シリコンウェーハを加熱する際、わずかなエネルギーも無駄にできません。通常のIRエミッターの問題点は、熱が漏れ出してしまうことです。加えられた熱の大部分がランプの背面から逃げてしまい、結果として電力が無駄に消費され、装置が不要に加...

空気を加熱するのはやめよう：ウェーハを処理するためのより効率的な方法 従来の抵抗式オーブンについて話しましょう。確かに機能はしますが、実際には巨大なヘアドライヤーのようなものです。ウェーハを適切な温度にするために、チャンバー全体やその中の空気を加熱するのに莫大なエネルギーが必要です。これは無駄遣い...

リソグラフィー工程においては、ご存知の通り、フォトレジストを加熱する際にウエハがわずか0.5度だけでもずれてしまうと、安定していた工程が問題を引き起こす原因となります。そのため、ソフトベイクやハードベイクの条件を厳格に管理するのです。なぜなら、温度の均一性こそが線幅の精度を決定するからです。そして...

リソグラフィー工程においては、ベイク温度が0.5℃だけ変動しても、そのロット全体が廃棄処分となってしまいます。ソフトベイクとは、溶剤をきれいに除去するための処理であり、ハードベイクとは、プロファイルを固定するための処理です。熱的な均一性が失われると、CDの精度が悪くなり、粒子の数も増えてしまいます...

ファブフロアでは、フォトレジストのベークは任意ではなく、厳格に守るべき許容範囲です。ウェハ全体で0.5°Cの温度変動があると露光後の線幅バラつきとなり、それが収率低下に直結します。我々のファブ用IR電圧レギュレータは、熱プロファイルを安定かつ再現性を持って制御範囲内に維持するために設計されています...